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本发明提供了一种用于快速制备氮化镓薄膜的装置，属于真空溅射领域技术领域。该用于快速制备氮化镓薄膜的装置包括供气组件、制备组件、溅射电解组件以及冷却组件。所述隔板连接在所述第一罐体的内部，所述氩气收集腔的一侧与所述氮气收集腔的底端设置有出气口...
该专利属于清华大学无锡应用技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学无锡应用技术研究院授权不得商用。

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