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本发明提供一种浸泡喷淋刻蚀方法及浸泡喷淋刻蚀设备，所述浸泡喷淋刻蚀方法包括：先将生长有石墨烯的基底具有需要留存的石墨烯薄膜的一面覆盖一层保护膜；再加入到流动的刻蚀药液中刻蚀基底，形成保护膜/石墨烯。所述浸泡喷淋刻蚀设备包括刻蚀装置、配液装置...
该专利属于无锡格菲电子薄膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡格菲电子薄膜科技有限公司授权不得商用。

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