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本公开的各实施例涉及用于流体的连续喷射的微流体设备及相关的制造过程。一种用于流体的连续喷射的微流体设备，包括：横向界定腔室的半导体主体；形成膜的中间结构，每个膜在顶部界定对应腔室；以及覆盖中间结构的喷嘴主体。对于每个腔室，该设备包括：对应的...
该专利属于意法半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过意法半导体股份有限公司授权不得商用。

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