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本实用新型公开一种半导体管状加热装置,包括管状基体和加热厚膜,管状基体在其内侧具有允许流体流通的流路,加热厚膜与管状基体导热接触,且设有主发热线圈,主发热线圈包括若干第一发热体和多个第二发热体,若干第一发热体沿第一方向平行间隔排列,多个第二...该专利属于深圳瑞森特电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳瑞森特电子科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开一种半导体管状加热装置,包括管状基体和加热厚膜,管状基体在其内侧具有允许流体流通的流路,加热厚膜与管状基体导热接触,且设有主发热线圈,主发热线圈包括若干第一发热体和多个第二发热体,若干第一发热体沿第一方向平行间隔排列,多个第二...