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本实用新型公开了一种GaN基外延结构,由下至上包括衬底、成核层、晶格匹配多量子阱缓冲层和GaN缓冲层;在晶格匹配多量子阱缓冲层中,每个多量子阱周期为InAlGaN势垒层和AlGaN势阱层交错组成,InAlGaN势垒层和AlGaN势阱层的晶格...该专利属于厦门市三安集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门市三安集成电路有限公司授权不得商用。
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