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本实用新型公开了一种全自动圆盘抛光机，包括工作台及控制箱，工作台上设有进料机构、抛光机构及出料机构，进料机构包括有放料限位组件及滑移组件；抛光机构包括有下压组件、旋转组件、粗抛组件及精抛组件，下压组件和旋转组件相对设置且压紧配合。本实用新型...
该专利属于应建庆所有，仅供学习研究参考，未经过应建庆授权不得商用。

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