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本发明提供一种微波等离子体设备中的基片台，用于承载薄片，所述基片台分上下两部分，基片台上半部分为一整体金属，其上表面为一圆环，中央中轴线处为一圆台，圆环与圆台之间有凹槽，圆台用来承载薄片，圆环高度高于圆台高度。基片台下半部为金属圆筒，里面埋...
该专利属于上海征世科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海征世科技有限公司授权不得商用。

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