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一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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