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本实用新型公开了一种等离子体刻蚀系统及其可用于加热的法拉第屏蔽装置，法拉第屏蔽装置包括法拉第屏蔽板和贴置在法拉第屏蔽板下端面的电阻丝；法拉第屏蔽板包括导电环和多个辐射对称连接在导电环外周的导电瓣状件；电阻丝的外表面设置有绝缘导热层；刻蚀工艺...
该专利属于北京鲁汶半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京鲁汶半导体科技有限公司授权不得商用。

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