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此处的实施例提供一种使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺沉积非晶碳层的方法，及由此形成的硬掩模。在一个实施例中，一种处理基板的方法，包括以下步骤：将基板定位在基板支撑件上，基板支撑件安置于处理腔室的处理容积中；使包含碳氢化合物气体...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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