下载一种具有选择性发射极结构的钝化接触电池的制备方法的技术资料

文档序号:26382495

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本发明涉及一种具有选择性发射极结构的钝化接触电池的制备方法,包括:在制绒后的N型硅片正面印刷硼掺杂浆料,并在氮气和/或氧气氛围中,温度为100‑200℃,烘干5‑15min,以固化硅片上的硼掺杂浆料,并去除硼掺杂浆料中的有机成分;硼掺杂浆料...
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