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本申请涉及与在电极上形成屏障材料有关的方法和设备。描述了与在电极上形成屏障材料有关的方法、设备和系统。一种示例方法包含：以半导体制作序列在介电材料上形成存储节点的顶部电极；以及在半导体制作设备中在所述顶部电极上原位形成屏障材料，以减少在处于...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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