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本发明涉及基板处理方法和基板处理装置。提供了一种用于处理基板的方法。所述方法包括，在所述基板旋转的情况下，将第一处理液供应至所述基板的处理目标表面；和随后，在处于蒸汽状态的蒸发抑制剂存在于供应至所述基板的所述第一处理液的周围的情况下，将具有...
该专利属于细美事有限公司;首尔大学校产学协力团所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司;首尔大学校产学协力团授权不得商用。

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