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一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法，该装置包括环形光源、样品、陷波滤波系统、显微系统、相机、XYZ位移平台、光束收集器、光纤、光谱仪和计算机。本发明利用宽光谱光源照明，计算高反膜光滑表面散射光谱特性，陷波滤波系统滤除强散射背景光，...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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