【技术实现步骤摘要】
介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法
本专利技术涉及表面缺陷检测领域，特别是一种针对介质高反膜元件表面缺陷的测量装置和测量方法。
技术介绍
作为精密光学元件的重要分支——高反膜元件被广泛应用于高功率激光系统、光刻系统和天文望远系统等高端装备。但基片加工和镀膜过程中产生的划痕、麻点等表面缺陷对入射光场产生散射、衍射和吸收等调制作用，引起局部光场极大增强和强烈的热效应，导致元件的损伤阈值被显著降低。为了控制缺陷，目前已提出多种表面缺陷检测方法，主要包括：目视法、全内反射显微成像法、显微散射暗场成像法和光热扫描成像法。目视法是在暗室中用强光照射元件，人眼(或辅以放大镜)观察。目视法测量精度低，不同检测员检测结果经常不一致。而且高反膜产生强烈的反射光和散射光，极易影响检测员的判断，引起生理疲劳，不能长时间连续工作，测量效率低。全内反射显微成像法利用入射角大于临界角时，入射光在元件和空气界面处形成全内反射，但表面缺陷破坏全反射条件，入射光从界面泄露被显微成像系统接收，形成暗背景亮缺陷像。该方法测量灵敏度高，但对照明入射方式...
【技术保护点】
1.一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置，其特征在于，包括环形光源(1)、陷波滤波系统(3)、显微系统(4)、相机(5)、供样品(2)放置的XYZ位移平台(6)、光束收集器(7)、光纤(8)、光谱仪(9)和计算机(10)；/n所述的环形光源(1)为宽光谱光源，发光波长范围为λ
【技术特征摘要】
1.一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置，其特征在于，包括环形光源(1)、陷波滤波系统(3)、显微系统(4)、相机(5)、供样品(2)放置的XYZ位移平台(6)、光束收集器(7)、光纤(8)、光谱仪(9)和计算机(10)；
所述的环形光源(1)为宽光谱光源，发光波长范围为λe1～λe2；所述的样品(2)为介质高反膜元件；
所述的环形光源(1)发出的平行光以θ角斜入射到所述的样品(2)的待测表面；
沿所述的样品(2)表面的法线方向依次为所述的陷波滤波系统(3)、显微系统(4)和相机(5)；所述的陷波滤波系统(3)由具有不同带阻波段的陷波滤光片组成，每一个陷波滤光片的带阻宽度为Δλ；所有的陷波滤光片的带阻波段覆盖了环形光源(1)的发光波长范围λe1～λe2；所述的陷波滤波系统(3)使带阻波段λs～λe的光被滤除，波长小于λs的光和波长大于λe的光可以通过，透过率大于90％；
所述的样品(2)的光滑表面和表面缺陷产生的散射光通过所述的陷波滤波系统(3)，透过的散射光被所述的显微系统(4)接收，在所述的相机(5)上成像；
所述的光束收集器(7)与光谱仪(9)通过所述的光纤(8)连接；
所述的相机(5)的输出端与所述的计算机(10)的输入端连接；所述的光谱仪(9)的输出端与所述的计算机(10)的输入端连接；所述的XYZ位移平台(6)的控制端与所述的计算机(10)的控制信号输出端连接。
2.利用权利要求1所述的介质高反膜元件表面缺陷测量装置进行介质高反膜表面缺陷测量的方法，其特征在于该方法包括下列步骤：
1)利用分光光度计测量所述的样品(2)待测表面在入射角...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘世杰，倪开灶，邵建达，王微微，潘靖宇，邹超逸，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。