温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供了一种单晶硅片的单面制绒工艺，包括以下步骤：A)将掩膜胶液涂覆至单晶硅片的背面，得到背面有掩膜涂层的单晶硅片；所述掩膜胶液包括以下重量份数的组分：氧化硅：0.1～1份，助剂：0.5～2份，木质素纤维：0.1～1份，阿拉伯胶：10～...该专利属于浙江正泰太阳能科技有限公司;海宁正泰新能源科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江正泰太阳能科技有限公司;海宁正泰新能源科技有限公司授权不得商用。