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窄粒径分布的三元前驱体的制备方法技术
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文档序号:26361934
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本发明提供了一种窄粒径分布的三元前驱体的制备方法,包括如下步骤,配置溶液:按照预定的摩尔比例配置镍离子、钴离子和M离子的混合溶液A、第一强碱性溶液B1和第一络合剂溶液C1;配置底液:向反应装置中加入纯水、第二强碱性溶液B2和第二络合剂溶液C...
该专利属于广东芳源环保股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东芳源环保股份有限公司授权不得商用。
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