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[课题]本发明制造一种含有Li，且尽管表面上具有C涂覆膜，但在粒子内和粒子间均具有均匀的Li浓度分布，并且抑制了SiC的生成的氧化硅类的负极材料。[解决方法]通过对包含Si、Li和O且其中Si的一部分作为Si单质而存在、Li作为硅酸锂而存在...
该专利属于株式会社大阪钛技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社大阪钛技术授权不得商用。

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