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导电膜制造技术
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文档序号:26347986
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本发明提供了一种制备导电膜的方法。该方法包括提供剥离层,该剥离层任选地具有拓扑结构化表面;以及在剥离层上沉积至少一个导电层,由此至少一个导电层具有基本上复制拓扑结构化表面的外表面。可将导电层从剥离层剥离以获得导电膜。此类导电膜可用于雷击应用...
该专利属于3M创新有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过3M创新有限公司授权不得商用。
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