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本发明公开一种纳米压印工艺监测装置、方法和纳米压印设备，其中，纳米压印工艺监测装置包括可移动的载物台、固定的光学监测台、及与光学监测台电连接的处理器，载物台用以安装待测晶圆，待测晶圆具有多个监测位置，监测位置设有PCM模块，光学监测台用于产...
该专利属于歌尔股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过歌尔股份有限公司授权不得商用。

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