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本发明公开了一种斜齿光栅的纳米压印方法。装置包括包括压印腔体和位于压印腔体中的模版固定盘、基板托盘、上伺服电机、下伺服电机、导轨和金属臂；方法包括纳米压印、脱模工作、翻印准备、复制模具进行纳米压印和翻印脱模等过程。本发明方法处理能避免脱模过...
该专利属于杭州欧光芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州欧光芯科技有限公司授权不得商用。

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