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本发明公开了一种蚀刻液组合物、其制备及应用。具体地，所述的蚀刻液组合物，按质量份数计，其包括下述组分：磷酸76.5～84.6份、水13.5～15份、如式A所示的化合物0.5～10份。使用本发明的如式A所示的化合物及组合物可提供高选择比，提升...
该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。

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