下载半导体结构及其形成方法的技术资料

文档序号:26306601

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一种半导体结构及其形成方法,包括:提供衬底;在所述衬底内形成凹槽;在所述凹槽内和所述衬底上形成若干层重叠的复合层,所述复合层包括电极层以及位于所述电极层上的第一介质层,位于上层的所述复合层暴露出位于下层的所述复合层的部分顶部表面。在所述衬底...
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