下载一种硅片高温氧化工艺的技术资料

文档序号:26306548

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本发明涉及半导体技术领域,公开了一种硅片高温氧化工艺,高温氧化在高温氧化设备上进行,所述高温氧化设备包括入料段、升温段、恒温段、冷却段、出料段,各段均用穿设在设备腔体两侧之间的转动的陶瓷轴进行传送,通过工控电脑设置各段的温度曲线,确保各段温...
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