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武汉华星光电技术有限公司
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TFT器件及其制备方法、阵列基板技术
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文档序号:26306534
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本发明提供一种TFT器件及其制备方法、阵列基板,栅极包括不同层设置的第一子栅极和第二子栅极,在TFT器件膜层厚度上第一子栅极位于有源层与源极及漏极之间,第二子栅极与源极及漏极同层、同一道光罩制备而成,可节约一道光罩,第二子栅极不受像素单元开...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。
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