温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

涉及一种用于处理基板的装置，所述装置包括：腔室，其具有形成在其中的处理空间；基板支承单元，其在所述处理空间中支承所述基板；板，其定位成面对所述处理空间中的所述基板支承单元、并具有形成在其中的多个孔；气体供应单元，其通过所述孔将气体供应到所述...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。