温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种物理溅射的硬件配置，包括一个靶构件，被配置为阴极，用于产生溅射粒子；以及一个基板，用于沉积所述溅射粒子，形成沉积膜。其中，所述靶构件至少包括一个第一靶构件和一个第二靶构件，两者相互独立；所述第一靶构件在其长度方向具有一个...
该专利属于爱莱私人有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱莱私人有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。