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基板处理装置、反应管形状测定方法以及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:26264343
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基板的位置精度对在基板制得的膜的均匀性产生的影响增大,产生了如下状况:即使将基板与晶舟的中心轴对齐地插入反应管,也很难说放置于反应管的中心轴。因此,需要基于反应管等的实际的安装尺寸,将晶圆载置于适当的位置,提高处理的均匀性。因此,具有:晶舟...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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