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本发明通过多次重复下述循环，在基板上形成非化学计量组成的氧化硅膜，所述循环非同时地进行：(a)对基板供给伪催化剂，使其吸附在基板的表面上的工序，(b)对基板供给氢化硅，通过吸附在基板表面上的伪催化剂的作用，使氢化硅中所含的硅吸附在基板表面上...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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