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本发明涉及一种基板处理设备，该基板处理设备包括：支撑部，支撑部用于支撑基板；第一电极部，第一电极部设置在支撑部的上方；第二电极部，第二电极部设置在第一电极部的上方；产生孔，产生孔形成为延伸穿过第一电极部；以及突出电极，突出电极从第二电极部向...
该专利属于周星工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。

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