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本发明公开了一种量子点层图案化的方法及量子点发光器件的制作方法，本发明首先在基底上形成表面具有配体的量子点的膜层，然后采用预设波长的光照射膜层的曝光区域；由于配体被配置为在预设波长的光照射下，配体在第一溶剂中的溶解性不同，因此曝光区域的配体...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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