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本发明公开了一种非晶硅转印靶材的重复利用方法，非晶硅转印靶材经非晶硅转印工艺使用后，先将载板表面残留的非晶硅清除掉，再通过低压化学气相沉积工艺在载板表面沉积非晶硅层。本发明能对经非晶硅转印工艺使用后的非晶硅转印靶材进行重复利用。...
该专利属于常州时创能源股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州时创能源股份有限公司授权不得商用。

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