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一种量子点器件及其制备方法技术
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文档序号:26261586
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一种量子点器件及其制备方法。包括:衬底;形成于所述衬底上部的至少一对鳍状结构;第一隔离层,形成于所述衬底上方,且所述鳍状结构的顶部相对于所述第一隔离层露出;阵列化栅极结构,形成于所述鳍状结构和第一隔离层之上,包括N行×M列个间隔设置的栅极,...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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