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本发明提供了一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其制作方法，涉及显示技术领域，使用该掩膜板形成膜层图案时，可有效减少内阴影的大小，从而提升膜层图案的制作质量，进而提升产品质量。一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口区和围绕所述...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司授权不得商用。