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本发明公开了一种电镀铜球清洗设备及其清洗方法,本电镀铜球清洗设备包括旋转清洗机构、筛选机构及回收机构,旋转清洗机构包括清洗缸体和圆轴,清洗缸具备酸洗旋转清洗空间和清水旋转清洗空间;筛选机构,筛选机构包括下料漏斗,下料漏斗安装在清洗缸体的底部...该专利属于惠州市特创电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过惠州市特创电子科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种电镀铜球清洗设备及其清洗方法,本电镀铜球清洗设备包括旋转清洗机构、筛选机构及回收机构,旋转清洗机构包括清洗缸体和圆轴,清洗缸具备酸洗旋转清洗空间和清水旋转清洗空间;筛选机构,筛选机构包括下料漏斗,下料漏斗安装在清洗缸体的底部...