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本发明公开了一种通过含氢碳薄膜与二硫化钼组成配副体系实现超滑宏观的方法,等离子体气相沉积法制备的碳薄膜与高功率双极微脉冲反应磁控溅射制备的二硫化钼组成配副体系,磨擦过程在摩擦剪切力的作用下,无序的二硫化钼沿摩擦方向有序排列,形成少层有序结构...该专利属于中国科学院兰州化学物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院兰州化学物理研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种通过含氢碳薄膜与二硫化钼组成配副体系实现超滑宏观的方法,等离子体气相沉积法制备的碳薄膜与高功率双极微脉冲反应磁控溅射制备的二硫化钼组成配副体系,磨擦过程在摩擦剪切力的作用下,无序的二硫化钼沿摩擦方向有序排列,形成少层有序结构...