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本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置，所述装置包括：中空反应室；设置于所述中空反应室上的至少一个进气孔和至少一个排气管；设置于所述中空反应室内的晶舟；所述中空反应室的水平轴线与所述晶舟的延伸方向之间具有预设角度；所述预设角度不等于零。本实用...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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