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本发明公开了一种阵列基板及其制备方法,阵列基板包括基板,其一侧表面依次设有阻隔层、有源层、第一绝缘层、第二绝缘层、第一介电层、第三绝缘层及第二介电层;第一凹槽,依次贯穿第二介电层、第三绝缘层、第一介电层、第二绝缘层、第一绝缘层、有源层以及部...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种阵列基板及其制备方法,阵列基板包括基板,其一侧表面依次设有阻隔层、有源层、第一绝缘层、第二绝缘层、第一介电层、第三绝缘层及第二介电层;第一凹槽,依次贯穿第二介电层、第三绝缘层、第一介电层、第二绝缘层、第一绝缘层、有源层以及部...