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本发明的半导体装置及半导体封装装置,具有:半导体基板,包括第一导电型的杂质;低浓度杂质层,形成于半导体基板的正面,包括浓度比半导体基板低的第一导电型的杂质;背面电极,形成于半导体基板的背面,由金属材料构成;第一、第二晶体管,分别形成于低浓度...该专利属于松下半导体解决方案株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过松下半导体解决方案株式会社授权不得商用。
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本发明的半导体装置及半导体封装装置,具有:半导体基板,包括第一导电型的杂质;低浓度杂质层,形成于半导体基板的正面,包括浓度比半导体基板低的第一导电型的杂质;背面电极,形成于半导体基板的背面,由金属材料构成;第一、第二晶体管,分别形成于低浓度...