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一种内埋元件封装结构,包括一介电结构、一半导体芯片、一第一高分子层以及一图案化导电层。半导体芯片内埋于介电结构中。第一高分子层覆盖半导体芯片且具有一第一厚度,第一厚度大于对应位于第一高分子层上方的介电结构的一第二厚度,其中第一高分子层具有一...该专利属于日月光半导体制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过日月光半导体制造股份有限公司授权不得商用。
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一种内埋元件封装结构,包括一介电结构、一半导体芯片、一第一高分子层以及一图案化导电层。半导体芯片内埋于介电结构中。第一高分子层覆盖半导体芯片且具有一第一厚度,第一厚度大于对应位于第一高分子层上方的介电结构的一第二厚度,其中第一高分子层具有一...