下载阵列基板及其制造方法的技术资料

文档序号:26175979

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本发明提供一种阵列基板及其制造方法,制造方法包括如下步骤:S1:在玻璃基板上沉积第一金属层;S2:形成位于半导体沟道所在区域并位于栅极绝缘层上的半导体沟道孔和位于第一端子上的端子接触孔;其中栅极绝缘层的厚度为...
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