温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种支撑框架结构制作方法和支撑框架结构，该方法包括步骤：提供包括支撑区和开口区的金属板；在支撑区的上下表面分别光刻形成上介质开孔和下介质开孔，上介质开孔和下介质开孔之间连接有金属间隔；在金属板上表面形成上金属柱，并层压上介质层，...
该专利属于珠海越亚半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海越亚半导体股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。