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本公开涉及一种用于处理基板的装置。所述基板处理装置包括散射器，前述散射器安置于挡板上方且分离等离子体与杂质。前述散射器包括：具有第一开口的板，前述第一开口在自上方检视时形成于前述板的中心区域中；及碰撞区域，前述碰撞区域安置于前述第一开口上方...
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