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本发明提供一种等离子体处理设备，导电基座周围的边缘环由多个独立的圆弧部组成，每个圆弧部包括上方暴露于等离子体的圆弧形陶瓷部和位于所述圆弧形陶瓷部下方的圆弧形导电部，多个圆弧形导电部共同构成耦合环，多个圆弧形陶瓷部共同构成聚焦环，每个圆弧部连...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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