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本发明提供了一种增强密集图形光刻分辨率的方法，包括执行胶图案化工艺，从而形成第一掩模图案；执行胶层处理工艺；再次执行胶图案化工艺，从而形成第二掩模图案，第二掩模图案中的图形与第一掩模图案中的图形间隔设置；其中，胶图案化工艺包括：在衬底上依次...
该专利属于儒芯微电子材料(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过儒芯微电子材料(上海)有限公司授权不得商用。

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