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一种掩膜图形修复方法及掩膜板，修复方法包括：提供基板，所述基板上形成有若干掩膜图形，其中部分所述掩膜图形具有缺口；形成填充所述缺口的第一修复层；在所述第一修复层与所述掩膜图形的连接部位形成第二修复层。本发明有助于增加修复层与掩膜图形的黏合强...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。