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本发明提供用于PECVD设备的原位清洗方法及相应的PECVD设备。所述方法包括：第一步骤，向PECVD设备的反应腔室通入含氟清洗气体并将其压强调节至第一压强，开启射频发生器并持续第一预设时间；第二步骤，持续通入含氟清洗气体并将反应腔室压强调...
该专利属于上海理想万里晖薄膜设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海理想万里晖薄膜设备有限公司授权不得商用。

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