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本发明提供一种成膜装置以及成膜方法，其可低成本且高效率地形成氢化硅膜。所述成膜装置包括：搬送部(30)，具有循环搬送工件(10)的旋转台(31)；成膜处理部(40)，具有包含硅材料的靶(42)、及对被导入靶(42)与旋转台(31)之间的溅射...
该专利属于芝浦机械电子装置株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过芝浦机械电子装置株式会社授权不得商用。

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