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本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基...
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