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掩模、掩模的制造方法及电子器件的制造方法技术
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文档序号:26162713
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本发明提供一种在将多个线组合的形状的掩模中,用于减小由于掩模的变形而产生的成膜对象物与掩模的间隙的技术。使用用于在基板表面形成成膜图案的掩模,该掩模具有:具有开口部的框架;及包括对由框架包围的内部区域进行分割的多个线的掩模箔,多个线包括第一...
该专利属于佳能特机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过佳能特机株式会社授权不得商用。
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